Di layar sentuh kapasitif, pengembangan produk tipe proyeksi sedang berjalan lancar. Seperti yang dijelaskan dalam Bab 2, ini berbeda dari layar sentuh resistif. Ketika kaca konduktif transparan tidak digunakan, itu dibuat dengan mengikat beberapa film konduktif transparan. Oleh karena itu, tidak ada lapisan udara antara layar sentuh kapasitif, yang dapat sangat mengurangi pantulan antarmuka, sehingga menghindari masalah pinggiran interferensi dan silau, sehingga memiliki kinerja optik yang unggul. Pada tahap ini, meskipun tidak cocok untuk input teks, ia dapat mewujudkan operasi input multi-titik.
Ini menyadari sentuhan dengan mendeteksi perubahan kuantitas listrik elektroda transparan. Elektroda transparan dibuat dengan mengikat beberapa film konduktif transparan bersama-sama melalui lapisan perekat, yang diselesaikan dengan teknologi laminating. Oleh karena itu, sangat penting untuk menghilangkan keterbacaan yang berbeda dari film ITO dan bagian tanpa film ITO melalui desain. Secara umum, setelah membentuk pola pola, penting juga untuk menekan reflektansi film ITO dan bagian tanpa film ITO, dan perbedaan warna antara transmisi dan pantulan. Achromatization juga harus dipertimbangkan untuk layar sentuh. Untuk lebih dekat dengan warna kaca, kabut perlu dikurangi. Selain itu, karena proses laminasi lapisan perekat digunakan, penting juga untuk menjaga konsistensi konduktivitas transparan dan lapisan perekat.
Layar sentuh resistif analog, dapat mewujudkan input teks. Keseragaman resistensi dalam bidang film konduktif transparan sangat mempengaruhi kemampuan untuk memasukkan karakter dengan benar. Ketahanan permukaan yang digunakan untuk mensimulasikan layar sentuh resistif umumnya 200 ~ 10001V□. Mempertimbangkan akurasi deteksi dan konsumsi daya layar sentuh, nilai resistansi sekitar 500 (1/□ adalah yang paling ideal.
Produksi film ITO terutama dilakukan melalui proses sputtering dalam deposisi uap fisik. Pembentukan film sputtering adalah metode di mana gas inert terionisasi oleh pelepasan vakum dalam perangkat vakum, dan ion dipercepat di bawah aksi medan listrik untuk membombardir target, dan partikel target yang menyerang terbang ke substrat untuk membentuk film tipis. Film sputtering memiliki keseragaman yang baik dan kualitas stabil jangka panjang, yang cocok untuk produksi massal jangka panjang. Keseragaman nilai resistansi sangat penting untuk layar sentuh resistif analog, sehingga pembentukan film yang tergagap paling cocok untuk membuat jenis film konduktif transparan ini.
Resistansi garis ITO pada substrat film tipis umumnya 3 x 1CT4? 1 x 10_311 • cm. Keuntungan dari substrat film tipis adalah fleksibilitas yang baik, ketipisan, ketahanan terhadap kerusakan, dan biaya rendah. Kerugiannya adalah rentang suhu yang diizinkan kecil, yang membatasi proses pembentukan film ITO. Suhu yang diizinkan dari film PET lebih dari 100 derajat Celcius. Kristalinitas film ITO yang disimpan pada suhu ini tidak baik, yang secara langsung mempengaruhi kinerja film ITO. Untuk mengatasi kekurangan yang disebutkan di atas, proses film ITO amorf suhu rendah dikembangkan, dan kemudian proses anil digunakan untuk rekristalisasi untuk menyelesaikan produksi film ITO berkinerja tinggi.
